RAITH电子束曝光设备：多功能电子束曝光系统 eLINE Plus

多功能电子束曝光系统   eLINE Plus

探索追赶电子束曝光功能的纳米工程系统

**高分辨电子束曝光、成像及纳米工程系统

纳米加工领域的瑞士军刀

多用途的纳米光刻系统

eLINE Plus被广泛用于大学和研究中心，该系统有很多多功能附件可供用户选择，满足用户对电子束光刻机多功能性的要求。

除具有专业的电子束光刻及成像功能，eLINE Plus还**集成了纳米操纵设备，如纳米探针、用于聚焦电子束诱导过程的气体注入系统等各种多功能选件，这使得eLINE Plus成为世界上*特的、用途广泛的电子束光刻系统。

纳米工程、纳米操纵，及聚焦电子束诱导过程

00001. 先进的热场发射电子光学柱，可得到的小束斑尺寸

00002. 开放的可升级的平台理念

00003. 广泛的纳米加工工艺

00004. 多种探测器，可灵活地实现对准标记识别、成像，及材料分析方面的应用

00005. *特的无写场拼接的直写模式（traxx /periodixx）

00006. Raith NanoSuite软件: 集所有模块于一体的综合软件界面

可扩展的科研工具理念

eLINE Plus具有模块可扩展的科研工具理念，用户可任意时间升级各种模块，使该系统适用于纳米研究中热门的研究方向。eLINE Plus从传统的电子束应用领域，扩展成为多功能的系统，打开了跨学科研究的大门。

eLINE Plus具有的小束斑尺寸（1.6nm）,在*的高分辨纳米加工中，不论是纳米曝光还是其他聚焦电子束诱导过程中都展现出**的优异性能。

eLINE Plus 纳米曝光应用

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HSQ胶上制作亚5nm线条